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Hartchrom Defense Technology AG

Aktiv

Hartchrom Defense Technology AG, Aktiengesellschaft in Steinach (SG), Metallbau. Eintrag im Handelsregister aktiv. Letzte Publikation: 7. Oktober 2026. Eingetragene Personen: Andrea Oehler (Präsident des Verwaltungsrats) und Klaus Hense (Mitglied des Verwaltungsrats). UID CHE-101.053.100.

Teil der Hartchrom-Gruppe, die Oberflächentechnik und Beschichtungen anbietet, um Endprodukte wirtschaftlicher, funktionaler und erfolgreicher zu machen. Für Hartchrom Defense Technology AG wird keine eigene Tätigkeit genannt.1

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Handelsregister

Rechtsform
Aktiengesellschaft
Aktuelle eingetragene Adresse
Schulstrasse 70, 9323 Steinach
Status
Aktiv
Register zuletzt geprüft
Letzte Registeränderung
Aktienkapital
CHF 200'000
UID-Nummer
CHE-101.053.100
Revisionsstelle
Ostschweizerische Revisionsgesellschaft AG
Zweck
Betrieb eines Unternehmens für technische Hartverchromung und Oberflächentechnik. Die Gesellschaft kann Zweigniederlassungen und Tochtergesellschaften im In- und Ausland errichten, sich an anderen Unternehmen im In- und Ausland beteiligen sowie Grundstücke erwerben, halten und veräussern.

Amt, beglaubigter Auszug und die neuesten Einträge des Kantons: Handelsregister St. Gallen.

Registerdaten aus Zefix und dem SHAB. So fragen Sie sie über die Zefix-API ab.

Eingetragene Führungspersonen und Zeichnungsberechtigte

Gemäss Auszug aus dem kantonalen Handelsregister vom 28. Oktober 2026. Was Prokura und Zeichnungsberechtigung bedeuten.

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Handelsregister-Publikationen

  • Organe geändert

    Hartchrom Defense Technology AG, in Steinach, CHE-101.053.100, Aktiengesellschaft (SHAB Nr. 51 vom 13.03.2024, Publ. 1005984572). Ausgeschiedene Personen und erloschene Unterschriften: Kölling, Denny, deutscher Staatsangehöriger, in Ahrensburg (DE), Mitglied des Verwaltungsrates, mit Kollektivunterschrift zu zweien. Eingetragene Personen neu oder mutierend: Hense, Klaus, deutscher Staatsangehöriger, in Kaarst (DE), Mitglied des Verwaltungsrates, mit Kollektivunterschrift zu zweien.

  • Organe geändert

    Hartchrom Defense Technology AG, in Steinach, CHE-101.053.100, Aktiengesellschaft (SHAB Nr. 166 vom 29.08.2023, Publ. 1005825923). Eingetragene Personen neu oder mutierend: Stieger, Kevin, von Oberriet (SG), in Rüthi (Rheintal) (Rüthi (SG)), mit Kollektivunterschrift zu zweien.

  • Organe geändert

    Hartchrom Defense Technology AG, in Steinach, CHE-101.053.100, Aktiengesellschaft (SHAB Nr. 143 vom 27.07.2020, Publ. 1004945767). Ausgeschiedene Personen und erloschene Unterschriften: Oehler, Dr. Edgar, von Balgach, in Balgach, Präsident des Verwaltungsrates, mit Einzelunterschrift; Stonawski, Peter, deutscher Staatsangehöriger, in Ellwangen/Jagst (DE), Mitglied des Verwaltungsrates, mit Kollektivunterschrift zu zweien. Eingetragene Personen neu oder mutierend: Oehler, Andrea, von Balgach, in Heerbrugg (Balgach), Präsidentin des Verwaltungsrates, mit Einzelunterschrift; Kölling, Denny, deutscher Staatsangehöriger, in Ahrensburg (DE), Mitglied des Verwaltungsrates, mit Kollektivunterschrift zu zweien.

  • Organe geändert

    Hartchrom Defense Technology AG, in Steinach, CHE-101.053.100, Aktiengesellschaft (SHAB Nr. 203 vom 19.10.2018, S.0, Publ. 1004480511). Ausgeschiedene Personen und erloschene Unterschriften: Grob, Matthias, von Sevelen, in St. Gallen, mit Kollektivunterschrift zu zweien.

  • Organe geändert

    Hartchrom Defense Technology AG, in Steinach, CHE-101.053.100, Aktiengesellschaft (SHAB Nr. 219 vom 11.11.2015, Publ. 2475871). Ausgeschiedene Personen und erloschene Unterschriften: Albrecht, Hendrik Jacobus, niederländischer Staatsangehöriger, in Winsen Aller (DE), Mitglied des Verwaltungsrates, mit Kollektivunterschrift zu zweien. Eingetragene Personen neu oder mutierend: Stonawski, Peter, deutscher Staatsangehöriger, in Ellwangen/Jagst (DE), Mitglied des Verwaltungsrates, mit Kollektivunterschrift zu zweien.

Quelle: Schweizerisches Handelsamtsblatt (SHAB). So lesen Sie eine SHAB-Publikation. So rufen Sie diese Meldungen über die SHAB-API ab.

1 Diese Angabe wurde durch maschinelles Lernen geschätzt und kann Fehler enthalten.