Divea SA
Divea SA, public limited company in Sion (VS). Registration active in the commercial register. Latest publication: May 14, 2024. UID CHE-380.261.394.
Divea captures CO2 from industrial emissions using graphene membranes. It produces special filters and packages them inside installations at industrial emitter sites to remove CO2 from flue gas.1
Commercial register
- Legal form
- Public limited company
- Registered office
- c/o Fondation The Ark Rue de l'Industrie 23, 1950 Sion
- Share capital
- CHF 100,000
- UID
- CHE-380.261.394
- Registered purpose (original language)
- La société vise généralement à élargir l'arbre technologique de l'humanité en développant des produits à valeur ajoutée à la société basés sur des membranes en graphène ou autres. La société a en particulier pour but principal la recherche, le développement, la production et la commercialisation à grande échelle de nanopores dans une couche monatomique de graphène pour la réparation de gaz, en particulier pour capturer le CO2 des émissions industrielles Elle peut effectuer toutes opérations en rapport avec cette activité ainsi que toutes opérations de nature à favoriser le but et l'intérêt de la société. Elle peut créer des succursales en Suisse et à l'étranger, participer à d'autres entreprises en Suisse et à l'étranger, acquérir des entreprises visant des buts analogues, fusionner avec de telles entreprises et conclure tous contrats propres à développer ou à atteindre son but ou s'y rapportant directement ou indirectement. Elle pourra également accorder des prêts à ses actionnaires ou à des tiers, se porter caution ou garantir tout engagement pris par ses actionnaires ou des tiers.
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Register publications
-
Divea SA, à Sion, CHE-380.261.394, c/o Fondation The Ark, Rue de l'Industrie 23, 1950 Sion, société anonyme (Nouvelle inscription). Date des statuts: 09.04.2024. But: La société vise généralement à élargir l'arbre technologique de l'humanité en développant des produits à valeur ajoutée à la société basés sur des membranes en graphène ou autres. La société a en particulier pour but principal la recherche, le développement, la production et la commercialisation à grande échelle de nanopores dans une couche monatomique de graphène pour la réparation de gaz, en particulier pour capturer le CO2 des émissions industrielles Elle peut effectuer toutes opérations en rapport avec cette activité ainsi que toutes opérations de nature à favoriser le but et l'intérêt de la société. Elle peut créer des succursales en Suisse et à l'étranger, participer à d'autres entreprises en Suisse et à l'étranger, acquérir des entreprises visant des buts analogues, fusionner avec de telles entreprises et conclure tous contrats propres à développer ou à atteindre son but ou s'y rapportant directement ou indirectement. Elle pourra également accorder des prêts à ses actionnaires ou à des tiers, se porter caution ou garantir tout engagement pris par ses actionnaires ou des tiers. Capital-actions: CHF 100'000.00. Capital-actions libéré: CHF 50'000.00. Actions: 10'000'000 actions nominatives de CHF 0.01 avec restriction de transmissibilité selon statuts. L'assemblée générale a introduit une clause statutaire relative à une augmentation du capital-actions au moyen d'un capital conditionnel, par décision du 09.04.2024; pour les détails, voir les statuts. Organe de publication: FOSC. Communication aux actionnaires: par lettre ou email. Personne(s) inscrite(s): Khalil, Karl, ressortissant libanais, à Sion, président du conseil d'administration, avec signature individuelle; Agrawal, Kumar Varoon, ressortissant indien, à Vevey, administrateur, avec signature collective à deux; Rezaei, Mojtaba, ressortissant iranien, à Aigle, administrateur, avec signature collective à deux. Selon déclaration du 09.04.2024, il est renoncé à un contrôle restreint.
1 This information was estimated by machine learning and may contain errors.